碳化硅的生产工艺流程
碳化硅能不能造CPU？
碳化硅能不能造CPU？
为何不可，碳化硅可以用作半导体材料，能够制作晶体管，自然能用来做CPU，关键是它相比硅没人家合适啊，硅基晶体管价格便宜，易于集成，集成度高，用在低功率数字电路里非常好，你花大价钱用碳化硅来做，性能还不如硅，自然不会用。在高频大功率的模拟电路(射频前端功率放大器)场合，就不用硅，用砷化镓之类的工艺，它频率高，功率容量大，但价格昂贵。不过现在的研究也在将硅基器件发展到高频大功率的模拟场合，为的就是降低成本，提高集成度，像IBM的锗硅工艺。
巩义千家信耐材主营：耐火材料、化工产品、环保材料、碳化硅、刚玉制品、铝矾土、抛光磨料、活性炭等产品!
铝基碳化硅材料如何抛光镜面？
铝基碳化硅材料抛光镜面方法：1.喷砂,主要作用是表面清理,在涂装(喷漆或喷塑)前喷砂可以增加表面粗 糙度,对附着力提高有一定贡献,但贡献有限,不如化学涂装前处理。
2.钝化是使金属表面转化为不易被氧化的状态, 而延缓金属的腐蚀速度的方法。
3.着色:对铝进行上色主要有两种工艺:一种是铝氧化上色工艺,另外一种是 铝电泳上色工艺。
碳化硅是什么材料？
碳化硅又名碳硅石、金刚砂，是一种无机物，化学式为SiC，是用石英砂、石油焦（或煤焦）、木屑（生产绿色碳化硅时需要加食盐）等原料通过电阻炉高温冶炼而成。碳化硅在大自然也存在罕见的矿物
碳化硅常作为一种磨料，用于加工打磨工艺。
碳化硅机械加工方法？
常见的方法是将石英砂与焦炭混合，利用其中的二氧化硅和石油焦，加入食盐和木屑，置入电炉中，加热到2000°C左右高温，经过各种化学工艺流程后得到碳化硅微粉。
2
/6碳化硅因其很大的硬度而成为一种重要的磨料，但其应用范围却超过一般的磨料。制备碳化硅制品首先要制备碳化硅冶炼块。在工业生产中，碳化硅冶炼块通常以石英、石油焦等为原料，辅助回收料、乏料，经过粉磨等工序调配成为配比合理与粒度合适的炉料经高温制备而成。
碳化硅衬底生产工艺流程？
1）碳化硅衬底的制作流程一般包括【原料合成】、【晶体生长】、【晶锭加工】、【晶棒切割】、【晶片研磨】、【抛光】、【清洗】等环节。其中晶体生长阶段为整个流程的核心，决定了碳化硅衬底的电学性质。晶体生长目前主要有【物理气相传输法（PVT）】、【高温化学气相沉积法（HT-CVD）】和【液相法】三种方法。
2）其中液相法生长晶体因尺寸较小目前仅用于实验室生长，综合生长条件控制、生长效率、缺陷控制等因素，商业化的技术路线主要是PVT和HT-CVD，与HT-CVD法相比，采用PVT法生长的碳化硅单晶所需要的设备简单，操作容易控制，设备价格以及运行成本低等优点成为工业生产所采用的主要方法。